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VNX50E-2膜堆產水流量為 50.0gpm / 11.4m3/h，是大水量 CEDI 系統的絕佳選擇 。
進水要求水質<10us/cm(請詳閱型錄)
回收率高達98.5～99%。
2PASS RO 產水水質>17.5 megohm-cm
DI Water 產水水質> 18 megohm-cm
針對大流量CEDI系統設計的VNX膜堆，使系統設計施工上更加簡易，相對的系統的造價成本也會明顯的降低。
VNX運用于半導體,光電,電廠等需要大量去離子水的行業。
VNX作為一種清潔、對環境友好的技術，相對需要化學藥劑再生的混床更有優勢。
采用大流量的CEDI膜堆可以使系統的配管更少，系統設計施工更加簡單。
產品特性如下：
Silica (SiO2) Removal ≥ 95%
Boron (B) Removal ≥ 95%
Sodium (Na) Removal 99.8%
Chloride (Cl) Removal 99.8%
? 不需要化學藥劑再生
? 雙O型止水環密封，保證不泄漏
? 無須注鹽系統
? 可在100psi（7bar），113F(45C)環境下連續運行
? 全填充式專利設計
? 低的運行成本
